现在是个制程满天飞的时代，过去Intel一家独大引领晶元工艺进步的格局已经被打破。虽然Intel自己和很多业内人士认为同为14nm，Intel制程的漏电率、功耗等技术优势仍然是三星14nm、台积电16nm所不具备的，甚至根据线宽严格计算，后两者的宣传水分都很大，但在民间舆论上，数字领先的诱惑还是无可抵御的。日前，三星决定加速6nm制程工艺研发，矢志在新的制程大战中再下一城。
当然，三星的6nm可能更加偏向于手机SOC CPU的制造，同时也保留有7nm的晶元生产线，与其联姻的格罗方德为AMD等制造7nm的CPU、GPU,明年可能就要出来了。此前有消息称台积电的7nm工艺也已经流片十三次，IBM 的5nm工艺进入实质性阶段。面对百花齐放的局面，Intel 10nm工艺制程也许会更有技术优势，但至少在民间形象上已经受到了一些影响。此前的消息表示，Cannonlake 进度也许会提前，但Intel 10纳米工艺初期难上高频，确定只能用在更强调能耗的笔记本平台上。
面对制程大战，最高兴的可能是新锐光刻机厂商了，荷兰ASML表示，EUV（极紫外）光刻机可用于7/6/5nm工艺，Intel、台积电、三星等都采购了相关设备。不知道ASML 的老对手，已经默默无闻的光刻机厂商兼影像厂商尼康会有什么心里感想。
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